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Elith、画像認識AIの最新技術展「AI EXPO 2026」に出展決定

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報道発表
プレスリリースより

幕張メッセで開催「画像認識 AI EXPO 2026」に参加

株式会社Elithは、2026年6月10日(水)~12日(金)に幕張メッセで開催される「画像認識 AI EXPO 2026」に出展することを発表した。本展示会は、画像認識AIやコンピュータビジョン、映像解析などの最新技術が集結する専門展示会である。

AIセーフティプラットフォーム「GENFLUX」を紹介

Elithブース(3D07)では、生成AI・画像認識AI・マルチモーダルAIを活用した開発支援や導入事例を紹介する。さらに、生成AIの品質評価や安全性向上を支援するAIセーフティプラットフォーム「GENFLUX」をメインに展示する予定だ。AI活用をご検討中の企業は、ぜひElithブースへ訪問してほしい。

展示会の開催概要

展示会名は「画像認識 AI EXPO 2026」で、開催日程は2026年6月10日(水)~12日(金)の10:00~18:00(最終日のみ17:00まで)。会場は幕張メッセ展示ホール3となり、小間番号は3D07である。参加方法は事前登録制で、参加費は無料。公式サイトはhttps://www.vision-ai-expo.jp/で確認できる。

Elithについて

株式会社Elithは、クライアントと共に課題を発見し、AIによる最適な解決策を共創するテックカンパニーである。製造業、金融業、医療業など幅広い業種に向けて、AIのソリューション提供を軸に、コンサルティングから生成AI・LLM・画像AIの開発、AI教育・アドバイザリーまで一気通貫で提供している。また、生成AIの社会実装において重要性が高まるAIセーフティにも注力し、生成AIの応答品質や動作をリアルタイムにチェックし、自動で改善提案まで行うAIセーフティプラットフォーム「GENFLUX」を通じて、安心して活用できるAI基盤の構築を支援している。

出典: https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000154.000121022.html